Article No.
204
Date
10.04.16
Hits
788
Writer
관리자
Title : POSTECH, Top Patent Power in Asia Placed world’s 19th in IEEE Spectrum’s ranking

POSTECH placed among the top 20 universities in the world in the evaluation of patent power. Based on surveys of patents applied in 2009, IEEE Spectrum, the flagship publication of the Institute of Electrical and Electorinics Engineers (IEEE) reporting the latest technology and exploring future trends, announced the impact of patents of high technology companies and academia worldwide.

Ranked overall 19th following the University of Oxford, POSTECH became the first Asian university to place in the top 20 since the IEEE started reporting from 2007.

The IEEE stated, “It is notable that the 2009 scorecard contains two non-U.S. universities-the University of Oxford and South Korea’s Pohang University of Science and Technology-compared to none in 2007.” Considering 18 other universities of the top 20 are all from the U.S, the result suggests that POSTECH’s research impact is internationally recognized.

In particular, POSTECH received the highest point (2.85) on Pipeline Originality, a scorecard criterion, among these 20 universities. It also marked as having the lowest percentage (2.2%) as self citations which involve patents referenced internally.

President Baik said, “To be acknowledged for our patent originality means that we are leading that area of research. POSTECH was approved for its research excellency by the IEEE through this research; however, we will strive for more research success.”

The indicators for IEEE’s patent power evaluation are Pipeline Growth, Pipeline Impact, Pipeline Generality, Pipeline Originality and the number of patents. These are inclusively measured and the points are adjusted based on the rate of self citations for a fair judgment.

The University of Texas was placed first, followed by the University of California and University of Central Florida.

POSTECH placed among the top 20 universities in the world in the evaluation of patent power. Based on surveys of patents applied in 2009, IEEE Spectrum, the flagship publication of the Institute of Electrical and Electorinics Engineers (IEEE) reporting the latest technology and exploring future trends, announced the impact of patents of high technology companies and academia worldwide.

Ranked overall 19th following the University of Oxford, POSTECH became the first Asian university to place in the top 20 since the IEEE started reporting from 2007.

The IEEE stated, “It is notable that the 2009 scorecard contains two non-U.S. universities-the University of Oxford and South Korea’s Pohang University of Science and Technology-compared to none in 2007.” Considering 18 other universities of the top 20 are all from the U.S, the result suggests that POSTECH’s research impact is internationally recognized.

In particular, POSTECH received the highest point (2.85) on Pipeline Originality, a scorecard criterion, among these 20 universities. It also marked as having the lowest percentage (2.2%) as self citations which involve patents referenced internally.

President Baik said, “To be acknowledged for our patent originality means that we are leading that area of research. POSTECH was approved for its research excellency by the IEEE through this research; however, we will strive for more research success.”

The indicators for IEEE’s patent power evaluation are Pipeline Growth, Pipeline Impact, Pipeline Generality, Pipeline Originality and the number of patents. These are inclusively measured and the points are adjusted based on the rate of self citations for a fair judgment.

The University of Texas was placed first, followed by the University of California and University of Central Florida.

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우리대학 특허 영향력 “아시아 최고”

美 지 순위 발표…우리대학 세계 19위

아시아 대학 중 최초로 20위권…특허 독창성은 “최고”

우리대학이 전 세계 대학을 대상으로 한 특허 영향력 평가에서 아시아 대학 중 유일하게 세계 20위권에 올라 학계의 주목을 끌고 있다.

국제전기전자공학회(IEEE)에서 발행하고 있는 지는 최근 작년 한 해 동안 신청된 특허를 바탕으로 대학과 기업의 특허 영향력을 조사, 발표했다.

우리대학은 대학과 교육기관을 대상으로 한 평가에서 영국 옥스퍼드대에 이어 종합 19위에 올랐다. 이번 결과로 우리대학은 IEEE가 이 순위를 발표한 2007년 이후 아시아권 대학으로서는 처음으로 20위권에 오른 대학이 되었다.

특히 평가 세부항목 중 특허의 독창성(Pipeline Originality) 부문에서 우리대학은 상위 20위권 대학 가운데 최고 점수(2.85)를 받아 눈길을 끌었다. 이와 함께 기관에서 낸 특허를 다시 인용하는 ‘기관 내 재인용(Self Citations)’ 항목에서도 가장 낮은 비율인 2.2%를 기록했다.

IEEE 측은 “이번 평가에서 영국의 옥스퍼드대와 한국의 포스텍 등 2개의 비(非) 미국 대학이 순위에 새롭게 오른 것은 주목할 만하다.”라고 밝혔을 정도로 미국 대학이 강세를 보인 이 순위에서 우리대학이 19위에 오른 것은 그만큼 연구 경쟁력을 세계적으로 인정받고 있다는 의미다.

백성기 총장은 “특허의 독창성을 인정받았다는 것은 곧 해당 연구 분야를 선도하고 있다는 의미와도 같다.”라며 “이번 평가를 통해 포스텍의 우수성을 인정받았지만, 앞으로 영향력 있는 연구성과 도출을 위해 더욱 노력하겠다.”라고 밝혔다.

IEEE의 특허영향력 평가는 △특허 성장(Pipeline Growth) △영향력(Pipeline Impact) △보편성(Pipeline Generality) △독창성 △특허 건수를 종합적으로 평가하며, 인용지수에 대한 공정한 평가를 위해 특허 출원 기관이 같은 특허를 재인용하는 기관 내 재인용 지수를 기준으로 점수를 조정한다.

한편 이번 평가에서 대학은 텍사스주립대가 1위를 차지했으며, 캘리포니아주립대․센트럴플로리다대․아이오와주립공과대․워싱턴주립대 등 상위 20위권 대학 중 18개를 미국 대학이 휩쓸었다.

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